发明名称 一种扩展电阻测试样品制备方法及样品研磨固定装置
摘要 本发明提供一种扩展电阻测试样品制备方法,包括以下步骤:将样品固定于与水平面具有固定角度的样品台的斜面上并将所述样品台固定于样品研磨固定装置上;将所述样品研磨固定装置放置于粗磨磨具上,使得所述样品能够以特定角度同所述粗磨磨具接触,对所述样品进行粗磨;将所述样品研磨固定装置放置于细磨磨具上,使得所述样品能够以特定角度同所述细磨磨具接触,对所述样品进行细磨抛光。本发明提供的扩展电阻测试样品制备方法可制备目标深度(外延层深度)为10um至600um的扩展电阻测试样品,且相比于现有技术的制备方法,采用本发明的扩展电阻测试样品制备方法显著提高了样品的制备效率,成本也更加低廉。
申请公布号 CN102042798B 申请公布日期 2012.05.23
申请号 CN200910197373.1 申请日期 2009.10.19
申请人 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 发明人 李震远;宋洁;陈彬
分类号 G01R27/02(2006.01)I;G01B7/06(2006.01)I;B24B1/00(2006.01)I;B24B37/27(2012.01)I 主分类号 G01R27/02(2006.01)I
代理机构 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人 屈蘅;李时云
主权项 一种扩展电阻测试样品制备方法,包括以下步骤:将样品固定于与水平面具有固定角度的样品台的斜面上并将所述样品台固定于样品研磨固定装置上;将所述样品研磨固定装置放置于粗磨磨具上,使得所述样品能够以特定角度同所述粗磨磨具接触,对所述样品进行粗磨;将所述样品研磨固定装置放置于细磨磨具上,使得所述样品能够以特定角度同所述细磨磨具接触,对所述样品进行细磨抛光;所述样品研磨固定装置,包括样品支架,所述样品支架的顶面上安装有千分尺旋钮,用以调节所述样品支架的高度和水平;所述样品支架的底端具有耐磨支脚;所述样品支架的中心设置有螺栓固定通孔,所述螺栓固定通孔内固定有螺栓,所述螺栓的顶端固定于所述样品支架的顶面上,所述螺栓的底端突出于所述样品支架的底面,所述螺栓的底端具有螺纹,用于固定样品。
地址 201203 上海市张江路18号