发明名称 硅片重金属污染测试参考片修复再生方法和修复再生溶液
摘要 本发明涉及一种硅片重金属污染测试参考片的修复再生溶液,包括A溶液和D溶液,A溶液是30wt%的过氧化氢,D溶液是十二水硫酸铝钾在H2SO4中的溶解液,其中100mlH2SO4中溶解有0.15~0.21g十二水硫酸铝钾,还涉及一种硅片重金属污染测试参考片的修复再生溶液,包括B溶液,B溶液是氟化氨和氢氟酸的混合液,其中1000ml氟化氨中混合有140~200ml氢氟酸,还涉及一种硅片重金属污染测试参考片的修复再生溶液,包括C溶液,C溶液是氢氟酸的水溶液,其中1000ml水中加入有230~300ml氢氟酸,还提供了相关修复再生方法,本发明设计独特,操作简便,效果显著,能解决测试参考片污染后的再处理利用问题,充分满足正常测试使用,而且能够大大降低企业的测试和制造成本,适于大规模推广应用。
申请公布号 CN102097291B 申请公布日期 2012.05.23
申请号 CN201010523263.2 申请日期 2010.10.28
申请人 上海申和热磁电子有限公司 发明人 包胜娟;吴丽萍
分类号 H01L21/00(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I 主分类号 H01L21/00(2006.01)I
代理机构 上海智信专利代理有限公司 31002 代理人 王洁;郑暄
主权项 一种硅片重金属污染测试参考片的修复再生溶液,其特征在于:包括A溶液和D溶液,所述A溶液是30wt%的过氧化氢,所述D溶液是十二水硫酸铝钾在H2SO4中的溶解液,其中100ml所述H2SO4中溶解有0.15~0.21g所述十二水硫酸铝钾。
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