发明名称 磁性薄膜的制造方法、磁性薄膜及磁性体
摘要 本发明提供在具有绝缘性的同时,具有永磁体功能,并且与以往相比剩余磁化能够得到提高的磁性薄膜的制造方法、磁性薄膜及磁性体。形成磁性薄膜3时,对于包含含有在具有绝缘性的同时具有永磁体功能ε型氧化铁系化合物的磁性粒子的涂布液,施加规定强度的外部磁场,使该涂布液固化而形成磁性薄膜3,从而可以使含有该ε型氧化铁系化合物的磁性粒子在沿磁化方向规则取向的状态下进行固化,这样一来,就可以提供在具有绝缘性的同时,具有永磁体功能,并且与以往相比剩余磁化能够得到提高的磁性薄膜3的制造方法、磁性薄膜3及磁性体1。
申请公布号 CN102473519A 申请公布日期 2012.05.23
申请号 CN201080026856.6 申请日期 2010.06.24
申请人 国立大学法人东京大学;同和电子科技有限公司 发明人 大越慎一;生井飞鸟;高见和之;富田浩太郎
分类号 H01F41/16(2006.01)I;C01G49/00(2006.01)I;C09D5/23(2006.01)I;C09D7/12(2006.01)I;C09D201/00(2006.01)I;G11B5/706(2006.01)I;G11B5/845(2006.01)I;H01F10/22(2006.01)I 主分类号 H01F41/16(2006.01)I
代理机构 北京市浩天知识产权代理事务所 11276 代理人 雒纯丹
主权项 磁性薄膜的制造方法,其特征在于,具备涂布工序,将含有包含ε型氧化铁系化合物的磁性粒子的涂布液涂布在成膜对象上,其中ε型氧化铁系化合物具有绝缘性同时具有永磁体功能;和形成磁性薄膜的形成工序,在对涂布于前述成膜对象上的前述涂布液施加规定强度的外部磁场的状态下,使前述涂布液固化而形成磁性薄膜。
地址 日本东京