发明名称 薄膜太阳电池制造系统以及共用基板保管架
摘要 本发明提供可削减工场设置空间的薄膜太阳电池制造系统。薄膜太阳电池制造系统具备:第1共用基板保管架(40-1)、第2共用基板保管架(40-2)和多个处理装置(1~16-2)。第1共用基板保管架(40-1)和第2共用基板保管架(40-2)倾斜地保管基板。多个处理装置(1~16-2)在薄膜太阳电池的制造工序中使用于基板处理,并被配置在第1共用基板保管架(40-1)和第2共用基板保管架(40-2)之间的区域,使基板的搬出部以及搬入部的任意一方朝向第1共用基板保管架(40-1),另一方朝向第2共用基板保管架(40-2)。第1共用基板保管架(40-1)以及第2共用基板保管架(40-2)被多个处理装置(1~16-2)所共用。
申请公布号 CN101689582B 申请公布日期 2012.05.23
申请号 CN200880020468.X 申请日期 2008.09.30
申请人 三菱重工业株式会社 发明人 秋山政记;井上正志
分类号 H01L31/20(2006.01)I;B65G49/06(2006.01)I;B65D85/86(2006.01)I 主分类号 H01L31/20(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 李贵亮
主权项 一种薄膜太阳电池制造系统,其具备:第1共用基板保管架,其从铅直方向倾斜地保管基板;多个处理装置,其在薄膜太阳电池的制造工序中使用于上述基板的处理,并被配置为向上述第1共用基板保管架搬出已结束处理的基板;以及基板处理控制装置,其控制上述基板的处理顺序,上述第1共用基板保管架被上述多个处理装置所共用,是在上述薄膜太阳电池的制造工序中用于吸收基板滞留的缓冲器,并且不遵从制造工序处理顺序地保管上述基板,上述基板处理控制装置控制上述基板向上述多个处理装置的至少一部分搬入以及搬出,并且控制上述基板向上述第1共用基板保管架搬入以及搬出。
地址 日本东京