发明名称 铜合金、锻制铜、电子元件及连接器
摘要 本发明提供可以实现钛铜的特性改善的新型铜合金、锻制铜、电子元件和连接器。该铜合金为含有2.0~4.0质量%的Ti,总计含有0~0.5质量%作为第三元素的选自Mn、Fe、Mg、Co、Ni、Cr、V、Nb、Mo、Zr、Si、B、P中的1种以上,剩余部分包含铜和不可避免的杂质的铜合金,其特征在于,轧制面的电解抛光后的表面的通过电子显微镜进行的组织观察中,粒径为0.5μm以上的第二相粒子的个数密度(X)为0.04~0.11个/μm2,粒径为0.5μm以上的第二相粒子沿着晶界析出的个数比率(Y)为45~80%。
申请公布号 CN102465215A 申请公布日期 2012.05.23
申请号 CN201110342312.7 申请日期 2011.10.28
申请人 JX日矿日石金属株式会社 发明人 江良尚彦;堀江弘泰
分类号 C22C9/00(2006.01)I;C22F1/08(2006.01)I;H01R13/03(2006.01)I 主分类号 C22C9/00(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 蔡晓菡;高旭轶
主权项 铜合金,其含有2.0~4.0质量%的Ti,总计含有0~0.5质量%作为第三元素的选自Mn、Fe、Mg、Co、Ni、Cr、V、Nb、Mo、Zr、Si、B、P中的1种以上,剩余部分包含铜和不可避免的杂质,其特征在于,轧制面的电解抛光后的表面的通过电子显微镜进行的组织观察中,粒径为0.5μm以上的第二相粒子的个数密度(X)为0.04~0.11个/μm2,粒径为0.5μm以上的第二相粒子沿着晶界析出的个数比率(Y)为45~80%。
地址 日本东京都