发明名称 半导体装置及其制造方法
摘要 本发明提供一种半导体装置及其制造方法。该半导体装置包括:基板,包括表面上的电极焊盘;半导体芯片,设置在该基板上,以电连接到该电极焊盘;第一树脂层,形成在该基板上,并且还填充在该基板和该半导体芯片之间;以及第二树脂层,层叠在该第一树脂层上,该第二树脂层的弹性模量大于该第一树脂层的弹性模量。
申请公布号 CN102468245A 申请公布日期 2012.05.23
申请号 CN201110344666.5 申请日期 2011.11.04
申请人 索尼公司 发明人 安川浩永
分类号 H01L23/29(2006.01)I;H01L23/34(2006.01)I;H01L21/56(2006.01)I;H01L21/48(2006.01)I 主分类号 H01L23/29(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 彭久云
主权项 一种半导体装置,包括:基板,包括表面上的电极焊盘;半导体芯片,设置在该基板上,以电连接到该电极焊盘;第一树脂层,形成在该基板上,并且还填充在该基板和该半导体芯片之间;以及第二树脂层,层叠在该第一树脂层上,该第二树脂层的弹性模量大于该第一树脂层的弹性模量。
地址 日本东京都