发明名称 |
半导体装置及其制造方法 |
摘要 |
本发明提供一种半导体装置及其制造方法。该半导体装置包括:基板,包括表面上的电极焊盘;半导体芯片,设置在该基板上,以电连接到该电极焊盘;第一树脂层,形成在该基板上,并且还填充在该基板和该半导体芯片之间;以及第二树脂层,层叠在该第一树脂层上,该第二树脂层的弹性模量大于该第一树脂层的弹性模量。 |
申请公布号 |
CN102468245A |
申请公布日期 |
2012.05.23 |
申请号 |
CN201110344666.5 |
申请日期 |
2011.11.04 |
申请人 |
索尼公司 |
发明人 |
安川浩永 |
分类号 |
H01L23/29(2006.01)I;H01L23/34(2006.01)I;H01L21/56(2006.01)I;H01L21/48(2006.01)I |
主分类号 |
H01L23/29(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
彭久云 |
主权项 |
一种半导体装置,包括:基板,包括表面上的电极焊盘;半导体芯片,设置在该基板上,以电连接到该电极焊盘;第一树脂层,形成在该基板上,并且还填充在该基板和该半导体芯片之间;以及第二树脂层,层叠在该第一树脂层上,该第二树脂层的弹性模量大于该第一树脂层的弹性模量。 |
地址 |
日本东京都 |