发明名称 处理半导体制程废气的旋风式合氧燃烧装置
摘要 本发明涉及一种处理半导体制程废气的旋风式合氧燃烧装置,在一废气处理槽顶部设一入口头座,该入口头座内设一废气通道,连通于外界一废气供应端与废气处理槽之间,导引废气进入废气处理槽,且废气通道外围间隔设置二隔板,所述隔板之间形成一点火腔室,且所述隔板上分别形成连通外界一燃气供应端、点火腔室与废气处理槽的复数斜孔,导引燃气经由点火腔室漩涡进入废气处理槽,期间接受点火腔室内一点火器点燃而生成漩涡火焰,燃烧进入废气处理槽的废气,并引动废气漩涡至废气处理槽的水幕上。
申请公布号 CN102466231A 申请公布日期 2012.05.23
申请号 CN201010565398.5 申请日期 2010.11.30
申请人 东服企业股份有限公司 发明人 冯五良
分类号 F23G7/06(2006.01)I 主分类号 F23G7/06(2006.01)I
代理机构 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 代理人 孙皓晨
主权项 一种处理半导体制程废气的旋风式合氧燃烧装置,在一废气供应端及一燃气供应端之间设一入口头座,且该入口头座位于一废气处理槽顶部,该废气处理槽内壁形成一外层水幕,其特征在于,该入口头座内配置包含有:一废气通道,连通于该废气供应端与该废气处理槽之间,以导引废气进入该废气处理槽;一上层隔板与一下层隔板,分别间隔于该废气通道外围与入口头座内壁之间,该废气通道外围、入口头座内壁、上层与下层隔板之间形成一点火腔室;复数上层斜孔,呈漩涡状分布形成于该上层隔板上,而围绕于该废气通道外围,且所述上层斜孔连通于该燃气供应端与点火腔室之间,以导引燃气漩涡进入该点火腔室;一点火器,植设于该点火腔室中,点燃该点火腔室内的燃气形成漩涡火焰,以加温该废气通道内的废气;及复数下层斜孔,呈漩涡状分布形成于该下层隔板上,而围绕于该废气通道外围,且所述下层斜孔连通于该点火腔室与该废气处理槽之间,以导引该火焰漩涡进入该废气处理槽,燃烧自该废气通道进入该废气处理槽的废气,并引动该废气漩涡至该水幕上。
地址 中国台湾台北市