发明名称 |
双重图形化方法 |
摘要 |
一种双重图形化方法,包括:分别提供基底和压印模具,所述基底上形成有第一光刻胶层,所述压印模具具有第一图形;使用所述压印模具对所述第一光刻胶层进行压印,将所述第一图形转移至所述第一光刻胶层;形成第二光刻胶层,覆盖所述压印后的第一光刻胶层;对所述第二光刻胶层进行图形化,定义出第二图形。本发明有利于改善图形化精度,减小图形的线宽,提高器件集成度。 |
申请公布号 |
CN102466969A |
申请公布日期 |
2012.05.23 |
申请号 |
CN201010553698.1 |
申请日期 |
2010.11.19 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
张海洋;孙武;张世谋 |
分类号 |
G03F7/00(2006.01)I;G03F7/09(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
骆苏华 |
主权项 |
一种双重图形化方法,其特征在于,包括:分别提供基底和压印模具,所述基底上形成有第一光刻胶层,所述压印模具具有第一图形;使用所述压印模具对所述第一光刻胶层进行压印,将所述第一图形转移至所述第一光刻胶层;形成第二光刻胶层,覆盖所述压印后的第一光刻胶层;对所述第二光刻胶层进行图形化,定义出第二图形。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江路18号 |