发明名称 电极板的通气孔形成方法
摘要 本发明提供一种电极板的通气孔形成方法,该电极板的通气孔形成方法具有:粗糙化工序,对等离子体处理装置用电极板的表面进行粗糙化以使中心线平均粗糙度Ra为0.2μm~30μm;及通气孔形成工序,对所述电极板中被粗糙化的所述表面照射波长为200nm~600nm的激光来在所述电极板上形成向厚度方向贯穿的通气孔,所述通气孔形成工序中,通过使所述激光的焦斑沿所述电极板的面方向回转来形成圆形照射区,使所述照射区向所述电极板的面方向做圆周运动,同时使所述激光的焦斑向所述电极板的厚度方向移动。
申请公布号 CN102473632A 申请公布日期 2012.05.23
申请号 CN201080033653.X 申请日期 2010.10.06
申请人 三菱综合材料株式会社 发明人 藤田悟史;松田厚
分类号 H01L21/3065(2006.01)I;B23K26/00(2006.01)I;B23K26/04(2006.01)I 主分类号 H01L21/3065(2006.01)I
代理机构 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人 杨晶;王琦
主权项 一种电极板的通气孔形成方法,其特征在于,具有:粗糙化工序,对等离子体处理装置用电极板的表面进行粗糙化以使中心线平均粗糙度Ra为0.2μm~30μm;及通气孔形成工序,对所述电极板中被粗糙化的所述表面照射波长为200nm~600nm的激光来在所述电极板上形成向厚度方向贯穿的通气孔,所述通气孔形成工序中,通过使所述激光的焦斑沿所述电极板的面方向回转来形成圆形照射区,使所述照射区向所述电极板的面方向做圆周运动,同时使所述激光的焦斑向所述电极板的厚度方向移动。
地址 日本东京