发明名称 |
用于III族磷化物半导体发光器件的p接触层 |
摘要 |
一种器件包括半导体结构,其具有布置在n型区域和p型区域之间的至少一个III族磷化物发光层。该半导体结构还包括GaAsxP1-xp接触层,其中x<0.45。第一金属接触直接接触GaAsxP1-xp接触层。第二金属接触电连接到n型区域。第一和第二金属接触形成于半导体结构的同一侧上。 |
申请公布号 |
CN102473804A |
申请公布日期 |
2012.05.23 |
申请号 |
CN201080029721.5 |
申请日期 |
2010.05.27 |
申请人 |
飞利浦拉米尔德斯照明设备有限责任公司;皇家飞利浦电子股份有限公司 |
发明人 |
T.钟;A.芒克霍尔姆 |
分类号 |
H01L33/30(2006.01)I;H01L33/02(2006.01)I;H01L33/38(2006.01)I;H01L33/40(2006.01)I;H01L33/14(2006.01)I |
主分类号 |
H01L33/30(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
谢建云;刘鹏 |
主权项 |
一种器件,包括:半导体结构,其包括: 布置在n型区域和p型区域之间的至少一个III族磷化物发光层;以及 GaAsxP1‑x p接触层,其中x<0.45;以及第一金属接触,其直接接触该GaAsxP1‑x p接触层;以及第二金属接触,其电连接到该n型区域;其中第一金属接触和第二金属接触形成于该半导体结构的同一侧上。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |