一种光刻技术用防尘薄膜组件

摘要

本发明提供一种光刻技术用防尘薄膜组件，将其贴附于光掩模上，很少会使光掩模发生变形。本发明的防尘薄膜组件的特征在于：在防尘薄膜组件框架的一个端面，借助粘合剂层綳贴有防尘薄膜，而在防尘薄膜组件框架的另一端面设有粘着剂层，该粘着剂层的光掩模贴附面为平坦面，并且粘着剂层的粘着力在1N/m至100N/m的范围之内。优选让前述粘着剂层的光掩模贴附表面的平坦度为15μm以下，让贴附有防尘薄膜的前述粘合剂层表面的平坦度为15μm以下。

主权项

一种光刻技术用防尘薄膜组件，其特征在于：在防尘薄膜组件框架的一个端面，借助粘合剂层绷紧贴附有防尘薄膜，而在另一端面设有粘着剂层，该粘着剂层的光掩模贴附面为平坦面，并且粘着剂层的粘着力在1N/m至100N/m的范围之内。