包括通过投影光学装置的光操纵的独立于图案和混合型匹配/调节

摘要

本发明公开了包括通过投影光学装置的光操纵的依赖图案的邻近匹配/调节。此处描述的是用于使光刻投影设备与参考光刻投影设备的特性匹配的方法，其中所述匹配包括优化照射源和投影光学装置特性。投影光学装置可以用于对光刻投影设备中的波前成形。根据此处的实施例，可以通过利用使用传递交叉系数的偏导数的泰勒级数展开或利用线性拟合算法加快所述方法。

主权项

一种用于将光刻过程调节至参考光刻过程的方法，所述光刻过程配置成使用光刻投影设备将设计布局的一部分成像到衬底上，所述光刻投影设备包括照射源和投影光学装置，所述方法包括步骤：定义多个设计变量的多变量成本函数，所述设计变量表示了所述光刻过程的特性，其中所述成本函数包括在所述光刻过程和所述参考光刻过程之间的光刻投影设备的光学特性的差别，其中所述设计变量中的至少一些设计变量包括所述投影光学装置的特性；和通过调整所述设计变量重新配置所述光刻过程的特性，直到预定的终止条件被满足为止。