| 发明名称 | 扩散剂组合物、杂质扩散层的形成方法、以及太阳能电池 | ||
| 摘要 | 一种扩散剂组合物，含有：杂质扩散成分(A)、在低于所述杂质扩散成分(A)开始热扩散的温度的温度下热分解而消失的粘合剂树脂(B)、SiO2微粒(C)、和包含沸点为100℃以上的有机溶剂(D1)的有机溶剂(D)。一种杂质扩散层的形成方法，包括：在半导体基板上印刷所述的扩散剂组合物而形成图案的图案形成工序，使所述扩散剂组合物的杂质扩散成分(A)向所述半导体基板扩散的扩散工序。以及一种太阳能电池，其具备利用所述的杂质扩散层的形成方法形成了杂质扩散层的半导体基板。 | ||
| 申请公布号 | CN102473613A | 申请公布日期 | 2012.05.23 |
| 申请号 | CN201080036913.9 | 申请日期 | 2010.08.18 |
| 申请人 | 东京应化工业株式会社 | 发明人 | 平井隆昭;室田敦史;谷津克也 |
| 分类号 | H01L21/225(2006.01)I;H01L31/04(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/225(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 蒋亭 |
| 主权项 | 一种扩散剂组合物，是向半导体基板的杂质扩散成分的印刷中所用的扩散剂组合物，其特征在于，含有：杂质扩散成分(A)、在低于所述杂质扩散成分(A)开始热扩散的温度的温度下热分解而消失的粘合剂树脂(B)、SiO2微粒(C)、和包含沸点为100℃以上的有机溶剂(D1)的有机溶剂(D)。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||