| 发明名称 | 用于光刻设备的照明系统及方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种用于光刻设备的照明系统及方法，将辐射源所发出的照明光束照射于物体，其特征在于，沿所述照明光束传播的方向依次包括：衍射光束器件，用于改变所述照明光束的横截面光强分布；由至少一个微反射镜单元组成的微反射阵列，通过改变微反射镜单元的倾斜角度从而调整所述照明光束横截面内的光强分布。 | ||
| 申请公布号 | CN102466976A | 申请公布日期 | 2012.05.23 |
| 申请号 | CN201010539530.5 | 申请日期 | 2010.11.11 |
| 申请人 | 上海微电子装备有限公司 | 发明人 | 段立峰;马明英 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G02B27/09(2006.01)I;G02B5/18(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人 | 王光辉 |
| 主权项 | 一种用于光刻设备的照明系统，将辐射源所发出的照明光束照射于物体，其特征在于，沿所述照明光束传播的方向依次包括：衍射光束器件，用于改变所述照明光束的横截面光强分布；由至少一个微反射镜单元组成的微反射阵列，通过改变所述微反射镜单元的倾斜角度，以调整所述照明光束横截面内的光强分布。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东区张江高科技园区张东路1525号 | ||