正交偏极式Mirau干涉方法以及其分光模组与干涉系统

摘要

本发明提供一种正交偏极式Mirau干涉方法，其利用一分光模组将一被聚光的入射光分成偏极态相互正交的一参考光与一检测光。该检测光照射至一待测物上而形成载有和该待测物的表面形状相关信息的一测物光。该测物光与该参考光先被该分光模组以偏极态相互正交的方式合光，再利用一分析器调制该合光光场中二光的偏极态和强度，使二光能相互干涉而产生具有高对比度的干涉图案。该分光模组可以利用二偏极元件、一双折射性基材或一偏极式分光层将该测物光与该参考光正交偏极化。本发明更提供一正交偏极式Mirau干涉系统，形成和一待测物的表面形状信息相关的干涉图案，可以利用一分析器分别调整参考光与测物光的强度而使二者相近，进而改善该干涉图案的对比度。

主权项

一种正交偏极式Mirau干涉方法，其特征在于，包括有下列步骤：步骤a，将一入射光聚光且分成偏极态相互正交的一参考光以及一检测光；步骤b，将该检测光投射至一待测物而形成一测物光，该测物光载有和该待测物的表面形状相关的信息；步骤c，将该测物光与该参考光以偏极态相互正交的方式合光而形成一合光光场；步骤d，将该合光光场中的测物光与参考光进行偏极态调制，使参考光与测物光的强度相近，而使其相互干涉产生具有高对比度的干涉图案。