发明名称 PN结二极管、相变随机存储器及其制作方法
摘要 一种PN结二极管、相变随机存储器及其制作方法。其中,相变随机存储器的制作方法,包括下列步骤:提供P型半导体衬底,所述P型半导体衬底内形成有掩埋N阱;在掩埋N阱表面注入N型离子形成N型扩散层;在P型半导体衬底上形成层间介质层,在所述层间介质层中形成有与掩埋N阱位置对应的通孔;向通孔内填充满多晶硅后,向多晶硅中注入P型离子,形成P型多晶硅插塞;在P型多晶硅插塞上依次形成第一电极、相变层和第二电极。本发明不但节省了费用,还简化了步骤,提高了制作效率。
申请公布号 CN101958248B 申请公布日期 2012.05.23
申请号 CN200910054959.2 申请日期 2009.07.16
申请人 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 发明人 吴关平;肖德元
分类号 H01L21/329(2006.01)I 主分类号 H01L21/329(2006.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 李丽
主权项 一种PN结二极管的制作方法,其特征在于,包括:提供P型半导体衬底,所述P型半导体衬底内形成有掩埋N阱;在掩埋N阱表面注入N型离子形成N型扩散层;在P型半导体衬底上形成层间介质层,在所述层间介质层中形成有与掩埋N阱位置对应的通孔;向通孔内填充满多晶硅后,向多晶硅中注入P型离子,形成P型多晶硅插塞,所述P型多晶硅插塞作为PN结的P结,又作为连接相变随机存储器中第一电极的导电插塞。
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