发明名称 | PN结二极管、相变随机存储器及其制作方法 | ||
摘要 | 一种PN结二极管、相变随机存储器及其制作方法。其中,相变随机存储器的制作方法,包括下列步骤:提供P型半导体衬底,所述P型半导体衬底内形成有掩埋N阱;在掩埋N阱表面注入N型离子形成N型扩散层;在P型半导体衬底上形成层间介质层,在所述层间介质层中形成有与掩埋N阱位置对应的通孔;向通孔内填充满多晶硅后,向多晶硅中注入P型离子,形成P型多晶硅插塞;在P型多晶硅插塞上依次形成第一电极、相变层和第二电极。本发明不但节省了费用,还简化了步骤,提高了制作效率。 | ||
申请公布号 | CN101958248B | 申请公布日期 | 2012.05.23 |
申请号 | CN200910054959.2 | 申请日期 | 2009.07.16 |
申请人 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 发明人 | 吴关平;肖德元 |
分类号 | H01L21/329(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/329(2006.01)I |
代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 李丽 |
主权项 | 一种PN结二极管的制作方法,其特征在于,包括:提供P型半导体衬底,所述P型半导体衬底内形成有掩埋N阱;在掩埋N阱表面注入N型离子形成N型扩散层;在P型半导体衬底上形成层间介质层,在所述层间介质层中形成有与掩埋N阱位置对应的通孔;向通孔内填充满多晶硅后,向多晶硅中注入P型离子,形成P型多晶硅插塞,所述P型多晶硅插塞作为PN结的P结,又作为连接相变随机存储器中第一电极的导电插塞。 | ||
地址 | 201203 上海市浦东新区张江路18号 |