发明名称 |
磁头滑块 |
摘要 |
与磁头滑块的飞行高度的减小有关,产生以下问题:由于污染物附着到磁头滑块的飞行表面而造成滑块飞行失稳。把施加减小表面能的效果的离子注入除前部轨道表面4和轨道表面7之外的磁头滑块1的飞行表面的整个表面中。根据这个,防止污染物附着到磁头滑块的飞行表面中污染物特别易于附着的前部台阶承载表面5、侧台阶承载表面6、台阶承载表面8及负压槽9上,从而抑制滑块飞行中的失稳。在磁头滑块的飞行表面的整个表面中的离子注入增大前部轨道表面4和轨道表面7的表面粗糙度,但如本发明那样在除前部轨道表面4和轨道表面7之外注入离子的情况下,可以有效地防止污染物附着到飞行表面上而不增加表面粗糙度,借此可以抑制滑块飞行的失稳。 |
申请公布号 |
CN101140784B |
申请公布日期 |
2012.05.23 |
申请号 |
CN200710148733.X |
申请日期 |
2007.09.06 |
申请人 |
日立环球储存科技荷兰有限公司 |
发明人 |
清水裕树;徐钧国;李建华;小平英一;松崎哲也;阿南英利 |
分类号 |
G11B21/21(2006.01)I;G11B5/60(2006.01)I;G11B5/31(2006.01)I |
主分类号 |
G11B21/21(2006.01)I |
代理机构 |
中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 |
代理人 |
李涛;钟强 |
主权项 |
一种磁头滑块,包括:轨道表面,具有形成在其表面上的保护膜;台阶承载表面,形成在比该轨道表面深的位置处;及负压槽表面,具有注入的离子,形成在比该台阶承载表面深的位置处;其中,所述台阶承载表面以及所述台阶承载表面与所述轨道表面之间的台阶表面具有注入其中的离子。 |
地址 |
荷兰阿姆斯特丹 |