| 摘要 |
本发明提供一种涂布显影装置，其能达到所要求的处理量，且装置的设计或制造比较容易。;依本发明之涂布显影装置，系在搬运区块S1与介面区块S6之间，以前后互相连接的方式设置相同构造的处理区块S2~S4，该等处理区块由复数个单位区块堆叠所构成，该复数个单位区块包含涂布膜形成用单位区块与显影处理用单位区块在内。像这样准备相同构造的处理区块S2~S4，并藉由增加或减少在搬运区块S1与介面区块S6之间排列的处理区块个数，以调整涂布显影装置的处理速度，达到所要求的处理量，并让装置的设计或制造比较容易实施。 |
