用于光罩电浆蚀刻之方法及设备

摘要

在此提供一种用于光罩蚀刻的方法及设备。在一实施例中，一种蚀刻一光罩的方法包括提供一处理室，其具有一基材支撑座用来接收一光罩基材于其上；一离子-自由基(ion-radical)屏蔽件被提供在该座上方；一基材被放置在该座上位在该离子-自由基屏蔽件底下；一处理气体被引入到该处理室内且由从该处理气体中形成一电浆，该基材主要系以穿过该屏蔽件的自由基来蚀刻。