发明名称 |
用于以电浆为基底的离子植入之法拉第剂量及均匀度监测器 |
摘要 |
一种法拉第剂量及均匀度监测器,可包含一磁性被抑制的环状法拉第杯将一目标晶圆包围。窄孔可减少法拉第杯开口内的放电。该环状法拉第杯有一连续横截面可排除因断裂所致之放电。多个不同半径的环状法拉第杯可独立测量电流密度以监测电浆均匀度的变化。可组态磁抑制场使其磁场强度随距离极快速减少以最小化电浆及植入干扰且可包含径向、方位角分量两者,或者是以方位角分量为主。可用多个极性交替垂直排列之磁石或用磁场线圈产生有方位角的场分量。此外,剂量电子产品可提供高电压脉冲式电流的积分,且可转换累积电荷为一序列光学耦合至剂量控制器的光脉冲。 |
申请公布号 |
TWI364787 |
申请公布日期 |
2012.05.21 |
申请号 |
TW094110500 |
申请日期 |
2005.04.01 |
申请人 |
瓦里安半导体设备联合公司 美国 |
发明人 |
史蒂芬R 瓦什尔;拉杰西 多赖;哈洛 波辛;杰 苏喀尔;邦乌恩 库;波乔恩O 派得森;克利斯 雷维特;提摩西 米勒 |
分类号 |
H01L21/265;H05H15/00 |
主分类号 |
H01L21/265 |
代理机构 |
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代理人 |
王盛发 台北市大安区金山南路2段12号8楼之1 |
主权项 |
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地址 |
美国 |