发明名称 |
一种永磁材料的硅烷化表面处理技术 |
摘要 |
本发明提供了一种永磁材料的硅烷化表面处理方法,所述表面处理方法包括如下步骤:(1)倒角磨光:采用的械振磨、滚磨倒角法对钕铁硼永磁材料进行常规磨光;(2)脱脂除油:加入磷酸钠、碳酸钠或氢氧化钠进行常规脱脂除油;(3)酸洗除锈:再加入硝酸溶液进行常规酸洗除锈,水洗;(4)采用硅烷进行硅烷化处理;和(5)水洗、吹干,以固化涂层;所述硅烷为R’Si(OR)3,其中,R’为一种带氨基或环氧基的有机官能团,R为低级烷基。本发明具有无有害重金属离子、不含磷、无需加温、处理时间短,控制简便的优点。 |
申请公布号 |
CN102453431A |
申请公布日期 |
2012.05.16 |
申请号 |
CN201010514694.2 |
申请日期 |
2010.10.14 |
申请人 |
北京中科三环高技术股份有限公司;天津三环乐喜新材料有限公司 |
发明人 |
白晓刚;潘广麾 |
分类号 |
C09D183/08(2006.01)I;C09D183/06(2006.01)I;C09D5/08(2006.01)I |
主分类号 |
C09D183/08(2006.01)I |
代理机构 |
北京乾诚五洲知识产权代理有限责任公司 11042 |
代理人 |
付晓青;李广文 |
主权项 |
一种永磁材料的硅烷化表面处理方法,所述表面处理方法包括如下步骤:(1)倒角磨光:采用的械振磨、滚磨倒角法对钕铁硼永磁材料进行常规磨光;(2)脱脂除油:加入磷酸钠、碳酸钠或氢氧化钠进行常规脱脂除油;(3)酸洗除锈:再加入硝酸溶液进行常规酸洗除锈,水洗;(4)采用硅烷进行硅烷化处理;和(5)水洗、吹干,以固化涂层;其中,所述硅烷为R’Si(OR)3,R’为一种带氨基的低级烷基、或带环氧基的低级酯基、或带氨基和环氧基的低级烷基,R为低级烷基。 |
地址 |
100190 北京市海淀区中关村东路66号甲1号长城大厦27层 |