发明名称 一种永磁材料的硅烷化表面处理技术
摘要 本发明提供了一种永磁材料的硅烷化表面处理方法,所述表面处理方法包括如下步骤:(1)倒角磨光:采用的械振磨、滚磨倒角法对钕铁硼永磁材料进行常规磨光;(2)脱脂除油:加入磷酸钠、碳酸钠或氢氧化钠进行常规脱脂除油;(3)酸洗除锈:再加入硝酸溶液进行常规酸洗除锈,水洗;(4)采用硅烷进行硅烷化处理;和(5)水洗、吹干,以固化涂层;所述硅烷为R’Si(OR)3,其中,R’为一种带氨基或环氧基的有机官能团,R为低级烷基。本发明具有无有害重金属离子、不含磷、无需加温、处理时间短,控制简便的优点。
申请公布号 CN102453431A 申请公布日期 2012.05.16
申请号 CN201010514694.2 申请日期 2010.10.14
申请人 北京中科三环高技术股份有限公司;天津三环乐喜新材料有限公司 发明人 白晓刚;潘广麾
分类号 C09D183/08(2006.01)I;C09D183/06(2006.01)I;C09D5/08(2006.01)I 主分类号 C09D183/08(2006.01)I
代理机构 北京乾诚五洲知识产权代理有限责任公司 11042 代理人 付晓青;李广文
主权项 一种永磁材料的硅烷化表面处理方法,所述表面处理方法包括如下步骤:(1)倒角磨光:采用的械振磨、滚磨倒角法对钕铁硼永磁材料进行常规磨光;(2)脱脂除油:加入磷酸钠、碳酸钠或氢氧化钠进行常规脱脂除油;(3)酸洗除锈:再加入硝酸溶液进行常规酸洗除锈,水洗;(4)采用硅烷进行硅烷化处理;和(5)水洗、吹干,以固化涂层;其中,所述硅烷为R’Si(OR)3,R’为一种带氨基的低级烷基、或带环氧基的低级酯基、或带氨基和环氧基的低级烷基,R为低级烷基。
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