发明名称 研磨玻璃基板的制造方法
摘要 本发明提供抑制凹痕的成长对玻璃基板进行表面研磨,可以获得没有凹痕和高度差的具有平滑玻璃表面的玻璃基板的研磨玻璃基板的制造方法,在充满有含有40~90重量%硫酸和0.4~4重量%氢氟酸的表面研磨液6的表面平滑化槽1中浸渍装有玻璃基板20的盒21进行表面研磨,抑制凹痕的成长、形成平滑的玻璃表面,在第1水洗槽2中进行水洗,之后浸渍在装满有含2~30重量%氢氟酸的后研磨液的后研磨槽3中进行后研磨,直至达到规定的玻璃基板厚度,从而制造研磨玻璃基板。
申请公布号 CN101062838B 申请公布日期 2012.05.16
申请号 CN200710100940.8 申请日期 2007.04.28
申请人 夏普株式会社;栗科技服务株式会社 发明人 近藤伸裕;儿岛宏明;藤井靖央;山口贵
分类号 C03C15/00(2006.01)I 主分类号 C03C15/00(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 孙秀武;李平英
主权项 一种平板显示器用的研磨玻璃基板的制造方法,该方法为在含有氢氟酸的研磨液中浸渍玻璃基板,对表面进行化学研磨,制造平板显示器用的研磨玻璃基板的方法,具有以下工序:表面平滑化工序:在含有40~90重量%硫酸和0.4~4重量%氢氟酸的表面研磨液中浸渍表面上存在微裂痕的玻璃基板并进行表面研磨,由此抑制凹痕的成长和高度差的产生,消除微裂痕,形成平滑玻璃表面;后研磨工序:将表面平滑化的玻璃基板浸渍在含有5~30重量%氢氟酸的后研磨液中,在具有平滑的玻璃表面的状态下进行后研磨直至达到规定的玻璃基板厚度,由此制造在玻璃表面上不产生凹痕和高度差,而具有平滑的玻璃表面的玻璃基板。
地址 日本大阪府大阪市