阵列基板及其制造方法和液晶显示器

摘要

本发明公开了一种阵列基板及其制造方法和液晶显示器。该制造方法包括：形成有源层薄膜和数据线金属薄膜；涂覆光刻胶，采用多色调掩膜板进行曝光显影，形成三个厚度区域的光刻胶图案；刻蚀掉第三厚度区域对应的数据线金属薄膜和有源层薄膜；灰化去除部分厚度的光刻胶；在保留第一厚度区域光刻胶的衬底基板上形成透明导电薄膜；剥离剩余的光刻胶以及剩余光刻胶上的透明导电薄膜；对露出的数据线金属薄膜和部分有源层薄膜进行刻蚀；刻蚀掉除沟道上方之外的剩余有源层薄膜，形成包括数据线、源电极、漏电极、像素电极和带有沟道的有源层的图案。本发明可简化生产工序，降低生产成本。

主权项

一种阵列基板的制造方法，包括在衬底基板上形成栅线、栅电极、数据线、有源层、源电极、漏电极和像素电极图案的流程，其特征在于，形成所述数据线、有源层、源电极、漏电极和像素电极图案的流程包括：形成有源层薄膜和数据线金属薄膜；在所述数据线金属薄膜上涂覆光刻胶，采用多色调掩膜板进行曝光显影，形成包括第三厚度区域、第二厚度区域和第一厚度区域的光刻胶图案，所述第三厚度区域至少对应于所述像素电极的图案，所述第二厚度区域对应于所述数据线、有源层、源电极和漏电极的图案；刻蚀掉第三厚度区域对应的数据线金属薄膜和有源层薄膜；灰化去除部分厚度的光刻胶，保留所述第一厚度区域的光刻胶；在保留所述第一厚度区域光刻胶的衬底基板上形成透明导电薄膜；剥离剩余的光刻胶以及剩余光刻胶上的透明导电薄膜；对露出的数据线金属薄膜进行刻蚀，并对随后露出的部分有源层薄膜进行刻蚀；采用构图工艺刻蚀掉除沟道上方之外的剩余有源层薄膜，形成包括数据线、源电极、漏电极、像素电极和带有沟道的有源层的图案。