发明名称 Schichtabscheidesystem,Schichtabscheideverfahren und dabei verwendete Gaszuführungsvorrichtung
摘要 <p>Die vorliegende Erfindung stellt ein Schichtabscheidesystem und ein Schichtabscheideverfahren durch Kombination mit einer Vielzahl von Gaszuführungsvorrichtungen und einer Abscheidevorrichtung, die mit der Vielzahl von Gaszuführungsvorichtungen kommuniziert, zur Verfügung. Indem Mittel der jeweils unterschiedlichen Arten von Dampf-Ausgangsstoffen mit hoher Konzentration und hoher Kapazität in einer Prozesskammer der Abscheidevorrichtung durch eine Vielzahl von Gaszuführungsvorrichtungen bereitgestellt werden, wird die Abscheidereaktion beschleunigt, so dass die Effizienz der Schichtabscheidung verbessert wird. In einer Ausführungsform der Gaszuführungsvorrichtung verwendet sie ein erstes Gas, um hohen Druck auf eine Flüssigkeitsoberfläche des Ausgangsstoffes bereitzustellen, wodurch der Ausgangsstoff in eine Zerstäubungs- und eine Heizeinheit transportiert wird, wobei der Ausgangsstoff zerstäubt wird und dann erwärmt wird, so dass ein Ausgangsstoff mit hoher Konzentration und hoher Kapazität ausgebildet wird, der durch ein anderes Trägergas transportiert wird.</p>
申请公布号 DE102011000092(A1) 申请公布日期 2012.05.16
申请号 DE20111000092 申请日期 2011.01.11
申请人 INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE 发明人 CHIANG, MING-TUNG;LIN, SHIH-CHIN
分类号 C23C16/448;C23C16/18;C23C16/455 主分类号 C23C16/448
代理机构 代理人
主权项
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