辐射损伤稳定性显著改善的玻璃及该种玻璃的生产方法和用途

摘要

本发明揭示一种玻璃，其具有较高内部透射性并具有较低的辐射所致物理收缩倾向和较低的曝光过度倾向，其包括：18-31％(重量计)SiO 2，0-7％(重量计)Na 2O 3，0-7％(重量计)K 2O，65-84％(重量计)PbO，0.001-1％(重量计)As 2O 3+As 2O 5其特征在于含有：Sb 2O 3 0至5000ppm，TiO 2 0至500ppm，CuO 0至100ppmF 0至1000ppm，∑(As 2O 3，As 2O 5，Sb 2O 3，F)20ppm及As(III)/As(V)的比例至少为0.5。该种玻璃适合用作光学元件。

主权项

1.一种具有较低辐射所致物理收缩倾向和较低曝光过度倾向的高含铅玻璃，其特征在于含有65至84％(重量计)的PbO和：其中：∑(As₂O₃，As₂O₅，Sb₂O₃，F)≥20ppm及As(III)/As(V)的比例至少为0.5。