曝光设备焦距监测方法

摘要

一种曝光设备焦距监测的方法，包括：提供具有基准标记的掩模板，通过光刻工艺和刻蚀工艺，将所述基准标记转移到基底的上，在所述基底上形成基准标记图案；提供具有测试标记的掩模板；在具有所述基准标记图案的基底上形成光刻胶层，利用所述的曝光设备执行光刻工艺，将所述测试标记转移到所述光刻胶层中，形成测试标记图案；测量所述测试标记图案与基准标记图案的偏移量；若所述的偏移量不等于目标值，则所述曝光设备偏离最佳曝光位置。本方法工艺步骤简单，测量效率较高。

主权项

一种扫描式曝光设备焦距在线监测的方法，其特征在于，包括：提供具有基准标记的掩模板，所述具有基准标记的掩模板上具有产品的某一层的图案，通过光刻工艺和刻蚀工艺，将所述基准标记转移到基底上，在所述基底上形成基准标记图案；提供具有测试标记的掩模板，所述具有测试标记的掩模板上具有产品另外一层的图案；在具有所述基准标记图案的基底上形成光刻胶层，利用所述的曝光设备执行光刻工艺，将所述测试标记转移到所述光刻胶层中，形成测试标记图案；测量所述测试标记图案与基准标记图案的偏移量，其中，所述基准标记和测试标记为中心重合的套刻标记，所述偏移量为测试标记图案与基准标记图案的中心偏移量，所述测试标记和基准标记形成于具有产品图案的掩模板的外围，所述监测方法与产品的光刻步骤同时进行；若所述的偏移量不等于目标值，则所述曝光设备偏离最佳曝光位置；所述方法进一步包括：根据所述偏移量与曝光设备焦距的对应关系，获得曝光设备的实际焦距。