| 发明名称 | 氮化铝膜的形成方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种采用CVD法，形成耐冲击性高，且质地细密的氮化铝薄膜的形成方法，在含铝原子(Al)的气体和含氮原子(N)的气体中，混合含氧原子(O)的气体，并且，朝着由氮化铝薄膜被覆的被处理物供给。 | ||
| 申请公布号 | CN102453884A | 申请公布日期 | 2012.05.16 |
| 申请号 | CN201110325937.2 | 申请日期 | 2011.10.24 |
| 申请人 | 信越化学工业株式会社 | 发明人 | 加藤公二;狩野正树;山村和市 |
| 分类号 | C23C16/34(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人 | 郭广迅 |
| 主权项 | 一种氮化铝薄膜的形成方法，其中，将含铝原子的气体、含氮原子的气体、含氧原子的气体供给到氮化铝薄膜的形成装置中。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||