发明名称 薄膜太阳电池的膜系、薄膜太阳电池及其制造方法
摘要 本发明公开了一种薄膜太阳电池的膜系,并公开了采用该膜系的薄膜太阳电池及其制造方法。本发明膜系包括一个p-i-n光电单元,所述p-i-n光电单元的p层上设置有重掺杂的P+层,所述p-i-n光电单元的n层上设置有重掺杂的N+层,该膜系结构为P+/p-i-n/N+。重掺杂的P+层和N+层有减低带电体复合性和滞留性的作用,同时因减低i层中电场的扭曲度而增加了电洞与电子在半导体中的漂移速度。本发明薄膜太阳电池的膜系光电转换率高,成本低,本发明薄膜太阳电池的膜系的光电转换率达7.5%。
申请公布号 CN101794828B 申请公布日期 2012.05.16
申请号 CN201010122960.7 申请日期 2010.03.12
申请人 河南阿格斯新能源有限公司 发明人 赵一辉
分类号 H01L31/042(2006.01)I;H01L31/0352(2006.01)I;H01L31/20(2006.01)I 主分类号 H01L31/042(2006.01)I
代理机构 郑州睿信知识产权代理有限公司 41119 代理人 陈浩
主权项 一种薄膜太阳电池的膜系,其特征在于,该膜系包括一个p‑i‑n光电单元,所述p‑i‑n光电单元的p层上设置有重掺杂的P+层,所述p‑i‑n光电单元的n层上设置有重掺杂的N+层,该膜系结构为P+/p‑i‑n/N+,所述膜系为非晶硅膜系或微晶硅膜系,所述P+层的掺杂物的浓度与硅原子的浓度比为(5~100)∶100000,所述N+层的掺杂物的浓度与硅原子的浓度比为(5~100)∶100000。
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