发明名称 磁铁及其加工方法和磁控溅射源
摘要 本发明涉及一种磁铁及其加工方法和磁控溅射源,其中,加工方法包括:将磁粉加工成型后进行烧结和电镀处理,以得到初始磁铁;在所述初始磁铁外表面套置非磁性的密闭外套;对套置非磁性的密闭外套的所述初始磁铁进行充磁以得到磁铁。在本实施例中,通过将磁铁的外表面密闭套置一层非磁性的密闭外套,以保护磁铁免受外界的气体或液体的腐蚀或污染,同时还可提高磁铁的机械强度和抗冲击能力,从而延长磁铁的使用寿命;并且,将充磁工序设定在完成烧结、电镀和焊接等高温工序之后进行,使充磁得到的磁铁不需要再经历高温工序,从而保持磁铁的磁性的稳定。
申请公布号 CN102456478A 申请公布日期 2012.05.16
申请号 CN201010523028.5 申请日期 2010.10.22
申请人 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 发明人 吴桂龙;刘旭;赵梦欣;杨柏;丁培军
分类号 H01F41/00(2006.01)I 主分类号 H01F41/00(2006.01)I
代理机构 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人 张天舒;陈源
主权项 一种磁铁的加工方法,其特征在于,包括:将磁粉加工成型后进行烧结和电镀处理,以得到初始磁铁;在所述初始磁铁外表面套置非磁性的密闭外套;对套置非磁性的密闭外套的所述初始磁铁进行充磁以得到磁铁。
地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5楼南二层