| 发明名称 | 一种抛光组合物 | ||
| 摘要 | 本发明揭示了一种抛光组合物，其用于层间介质材料二氧化硅的平坦化。它至少含有一种磨料颗粒，一种pH调节剂，一种辅助清洗剂和一种螯合剂。该抛光液的特点是能够有效去除晶圆表面的颗粒物残留，具有较高的二氧化硅去除速率、平坦化效率和稳定性。 | ||
| 申请公布号 | CN102453437A | 申请公布日期 | 2012.05.16 |
| 申请号 | CN201010517496.1 | 申请日期 | 2010.10.22 |
| 申请人 | 安集微电子(上海)有限公司 | 发明人 | 宋伟红;姚颖 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 一种抛光组合物，包含下列组分：a)含有一种磨料，b)一种pH调节剂，c)一种辅助清洗剂，d)一种螯合剂。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 | ||