| 发明名称 | 一种化学机械抛光液 | ||
| 摘要 | 本发明揭示了一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液，它至少包含一种磨料粒子，一种金属螯合剂，一种金属腐蚀抑制剂组合，一种有机溶剂以及一种氧化剂。该抛光液具有较高的介质材料和低介电材料去除速率，具有较好的表面缺陷校正能力，并能有效的减少抛光过程中金属化合物在抛光垫上的残留。并具有较好的稳定性。 | ||
| 申请公布号 | CN102453439A | 申请公布日期 | 2012.05.16 |
| 申请号 | CN201010517505.7 | 申请日期 | 2010.10.22 |
| 申请人 | 安集微电子(上海)有限公司 | 发明人 | 宋伟红;姚颖 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I;C23F3/04(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液，包含：a)一种磨料。b)一种金属腐蚀抑制剂组合。c)一种螯合剂。d)一种有机溶剂。e)一种氧化剂。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 | ||