离子注入系统及利用该系统的离子注入方法

摘要

本发明涉及可向大面积基板注入离子并且可以节省制造成本的离子注入系统以及利用该系统的离子注入方法。

主权项

一种离子注入系统，用于向基板注入离子，其特征在于，包括：多个离子注入组件，设置成一列，向所述基板注入所述离子；以及移送组件，提供让所述基板在其内部移动的移动通道，使所述基板在所述移动通道内移动；所述离子注入组件向所述基板的部分区域注入所述离子，所述基板向所述移动通道内的第一方向移动，并被所述多个离子注入组件注入所述离子；所述基板向所述第一方向移动后，向与所述第一方向相反的第二方向移动，并被所述多个离子注入组件注入所述离子，所述移送组件包括：多个处理腔室，与所述离子注入组件分别连接，将释放的所述离子注入于所述基板；返送腔室，变更所述基板的移送方向；支撑物，支撑所述基板；第一移送引导装置，提供移动路径，使得所述支撑物在所述腔室内部以所述第一方向移动；以及第二移送引导装置，提供移动路径，使得所述支撑物在所述腔室内部以所述第二方向移动。