发明名称 一种多晶硅还原炉内衬涂层
摘要 本实用新型涉及一种应用于多晶硅还原炉的内侧炉壁涂层(简称内衬涂层)以及该涂层的制造方法,具体的是改良西门子法多晶硅还原炉内衬防腐蚀红外反射涂层。所述涂层系金属陶瓷材料,在改良西门子法多晶硅还原炉内侧炉壁上直接涂敷。采用的涂敷方法为物理气相沉积法或者化学气相沉积法。所述多晶硅还原炉内衬涂层的厚度为1-10微米,制造成本低,对炉壁的附着力强。该涂层耐高温,耐强酸强碱腐蚀,耐机械冲击和刮削,红外反射效率高,使用寿命长,可以有效降低改良西门子法多晶硅还原炉内热能向炉外传递的损失。该涂层取代纯金红外反射涂层,因而大大降低了涂层材料的费用,从而可以大幅降低改良西门子法制造多晶硅产品的成本。
申请公布号 CN202220083U 申请公布日期 2012.05.16
申请号 CN201120064775.7 申请日期 2011.03.14
申请人 胡倾宇 发明人 胡倾宇
分类号 C01B33/035(2006.01)I 主分类号 C01B33/035(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种多晶硅还原炉内侧炉壁涂层,其特征在于:(1)是一种金属陶瓷涂层,或(2)是几层不同种类的金属陶瓷涂层的组合,是由物理气相沉积(PVD)或者化学气相沉积法(CVD)制备的。
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