| 发明名称 | 用于涂覆玻璃基材的方法和设备 | ||
| 摘要 | 本发明涉及在正常空气压力下涂覆玻璃基材(6)的表面(8)的涂覆方法，在该涂覆方法中将至少一种液体起始材料雾化成为小滴(12)，并且将形成的小滴(12)引导至待涂覆的表面(8)。通过用玻璃基材(6)给该涂覆方法带来使小滴(12)气化所需的热能，使形成的小滴(12)在所述小滴(12)接触待涂覆的表面(8)之前接近于待涂覆的表面(8)基本上气化。 | ||
| 申请公布号 | CN102459109A | 申请公布日期 | 2012.05.16 |
| 申请号 | CN201080025507.2 | 申请日期 | 2010.06.08 |
| 申请人 | BENEQ有限公司 | 发明人 | M·拉加拉;S·考皮南 |
| 分类号 | C03C17/00(2006.01)I;C23C16/448(2006.01)I | 主分类号 | C03C17/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 汪宇伟 |
| 主权项 | 一种在正常空气压力下涂覆玻璃基材表面的涂覆方法，在该涂覆方法中，将至少一种液体起始材料雾化成小滴，和将形成的小滴导引至待涂覆表面，使得起始材料在基材表面上发生反应，其特征在于：通过用玻璃基材给该涂覆方法带来使小滴气化所需的热能，使形成的小滴在所述起始材料于基材表面上发生反应之前接近于待涂覆的表面基本上气化。 | ||
| 地址 | 芬兰万塔 | ||