| 发明名称 | 锇膜的电镀制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种厚度在1微米以上的锇膜及其制造方法。该方法通过在玻璃基片上用PVD法镀铬膜，再在铬膜上用PVD法镀一层导电系数高、化学稳定性好的金膜，然后在金膜上电镀锇膜而成。电镀分次进行、从而使锇膜厚度达到1微米以上。本发明的锇膜可用于制备空间原子氧环境探测器，解决了传统的PVD方法淀积锇膜容易发生开裂现象以及锇层镀不厚问题。 | ||
| 申请公布号 | CN102453932A | 申请公布日期 | 2012.05.16 |
| 申请号 | CN201010517810.6 | 申请日期 | 2010.10.25 |
| 申请人 | 北京卫星环境工程研究所 | 发明人 | 刘向鹏;童靖宇;李涛;姜海富;赵雪;贾铮 |
| 分类号 | C25D3/54(2006.01)I;C25D17/10(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I;C23C14/18(2006.01)I | 主分类号 | C25D3/54(2006.01)I |
| 代理机构 | 代理人 | ||
| 主权项 | 一种锇膜，所述锇膜以玻璃基片为衬底，其上用PVD法镀铬层，铬层上用PVD法镀金层，然后在金层上电镀锇膜，其中，锇膜的厚度在1微米以上。 | ||
| 地址 | 100094 北京市海淀区友谊路104 | ||