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Ein Quellkollektormodul (SOCOMO) zum Erzeugen eines lasererzeugten Plasmas (LPP), das EUV-Strahlung emittiert, sowie einen Kollektorspiegel mit streifendem Einfall (grazing-incidence collector (GIC) mirror), angeordnet relativ zum LPP und mit einem Eintrittsende und einem Austrittsende. Das LPP wird unter Verwendung eines LPP-Target-Systems mit einem Lichtquellen-Abschnitt und einem Target-Abschnitt gebildet, wobei ein gepulster Laserstrahl vom Lichtquell-Abschnitt Xenonflüssigkeit im Target-Abschnitt bestrahlt. Der GIC-Spiegel ist relativ zum LPP angeordnet, um die EUV-Strahlung an ihrem Eintrittsende aufzunehmen und die aufgenommene EUV-Strahlung an einem Zwischenfokus, angrenzend an das Austrittsende zu fokussieren. Eine Strahlungskollektor-Verstärkungsvorrichtung mit mindestens einem Trichterelement kann eingesetzt werden, um die Menge an EUV-Strahlung, bereitgestellt für den Zwischenfokus, zu erhöhen und/oder zu einem stromabwärtigen Beleuchtungsgerät zu richten bzw. zu lenken. Ein EUV-Lithographiesystem, das das SOCOMO verwendet, ist ebenfalls offenbart.
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