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发明名称
线内式处理装置
摘要
本发明系提供一种线内式处理装置,系在短时间内对基板进行均匀的温调者。;该线内式处理装置,系在由多数条连续型滚木2构成的搬送线1下方配置温度调整手段3。温度调整手段3系由以下构件所构成:配置于连续型滚木2、2间的两条温调液体喷出喷嘴4、以及供给该嘴4已温调的液体(显影液或水)之冰水主机5。在温调液体喷出喷嘴4的上面形成有朝向玻璃基板W的背面喷出温调液体之缝隙4a,该缝隙4a的长度设定为与玻璃基板W的宽度大致相等。
申请公布号
TWI364062
申请公布日期
2012.05.11
申请号
TW093102825
申请日期
2004.02.06
申请人
东京应化工业股份有限公司 日本
发明人
岛井太;河田茂
分类号
H01L21/027
主分类号
H01L21/027
代理机构
代理人
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址
日本
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