Data Perturbation for Wafer Inspection or Metrology Setup,申请号US201113258441-传众专利搜索

发明名称	Data Perturbation for Wafer Inspection or Metrology Setup
摘要	Various embodiments for determining parameters for wafer inspection and/or metrology are provided.
申请公布号	US2012116733(A1)	申请公布日期	2012.05.10
申请号	US201113258441	申请日期	2011.06.09
申请人	THATTAISUNDARAM GOVIND;MAHADEVAN MOHAN;GUPTA AJAY;CHEN CHIEN-HUEI ADAM;KULKARNI ASHOK;KIRKWOOD JASON;WU KENONG;RONG SONGNIAN;KLA-TENCOR CORPORATION	发明人	THATTAISUNDARAM GOVIND;MAHADEVAN MOHAN;GUPTA AJAY;CHEN CHIEN-HUEI ADAM;KULKARNI ASHOK;KIRKWOOD JASON;WU KENONG;RONG SONGNIAN
分类号	G06F17/50	主分类号	G06F17/50
代理机构		代理人
主权项
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