一种用HF和冰乙酸配制的腐蚀液去除晶圆边缘氧化膜的方法

摘要

本发明涉及一种用HF和冰乙酸配制的腐蚀液去除晶圆边缘氧化膜的方法，包括如下步骤：A、配制冰乙酸和HF的混合溶液，将其倒入滚轮式去边机的酸槽内；冰乙酸为98%，AR级；HF为40%-49%，AR级；配比为数据为，冰乙酸：HF=1:1至15:1；B、将装有晶圆硅片的片架装入滚轮式去边机，转动转轮，使转轮上布袋浸有的氢氟酸与硅片氧化膜边缘反应；C、取出片架，清洗，检验边缘去除效果，应用本发明的腐蚀液后的滚轮式去边技术，可以用于大规模集成电路及分立器件所用的抛光片的制备。该方法成本低，生产效率高，实用性强，是一种适用于大规模工业生产的去除背面边缘SiO2膜的技术。

主权项

一种用HF和冰乙酸配制的腐蚀液去除晶圆边缘氧化膜的方法，其特征在于，用HF与冰乙酸混合配置腐蚀液替代传统的HF与水混合的腐蚀液进行晶圆边缘氧化膜去除处理，包括如下步骤： A 、配制冰乙酸和HF的混合溶液，将其倒入滚轮式去边机的酸槽内；冰乙酸为98%，AR级； HF为40%‑49%，AR级；配比为数据为，冰乙酸：HF=1:1至15:1；B 、将装有晶圆硅片的片架装入滚轮式去边机，转动转轮，使转轮上布袋浸有的氢氟酸与硅片氧化膜边缘发生反应； C 、取出片架，清洗，检验边缘去除效果。