| 发明名称 | 检测衬底上表面缺陷的方法以及使用该方法的设备 | ||
| 摘要 | 一种检测衬底上表面缺陷的方法以及使用该方法的设备。本发明涉及一种检测衬底(2)上例如滑移线型缺陷的表面缺陷的方法，衬底设计用于电子仪器、光电子仪器或类似仪器，该方法的显著之处在于至少包括以下步骤：向衬底(2)上投射由交替的光条纹和暗带组成的图案，从而产生被衬底(2)的表面反射的条纹；将图案与衬底(2)沿着至少一个方向相对移位，从而将衬底(2)上的图案的条纹移位；通过传感器(8)获得被衬底(2)反射的图案的至少三个图像的序列，所述图像对应于图案的条纹的移位；利用图案的条纹的移位，确定衬底(2)的表面的梯度；以及利用衬底(2)的表面的梯度的变化，确定衬底(2)有没有表面缺陷。本发明的另一目的涉及使用该方法的设备。 | ||
| 申请公布号 | CN101711354B | 申请公布日期 | 2012.05.09 |
| 申请号 | CN200880017398.2 | 申请日期 | 2008.03.27 |
| 申请人 | SOI科技公司;阿尔塔科技半导体公司 | 发明人 | 塞西利·穆兰;索菲·莫里茨;菲利普·加斯塔尔多;弗朗索瓦·伯杰;让-鲁克·德尔凯尔里;帕特里斯·贝兰;克里斯托夫·马勒维尔 |
| 分类号 | G01N21/95(2006.01)I;G01B11/25(2006.01)I;H01L21/66(2006.01)I | 主分类号 | G01N21/95(2006.01)I |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人 | 张浴月;张志杰 |
| 主权项 | 一种检测衬底(2)上滑移线型表面缺陷的方法，所述衬底(2)被设计为用于电子仪器或光电子仪器，其特征在于，所述方法至少包括以下步骤：向所述衬底(2)上投射由交替的光条纹(4)和暗带(5)组成的图案(3)，从而产生被所述衬底(2)的表面反射的条纹，所述图案(3)的条纹(4)彼此平行，并且平行于所述衬底(2)的第一主晶轴延伸，将所述图案(3)与所述衬底(2)沿着至少一个方向相对移位，从而将所述衬底(2)上的所述图案(3)的条纹(4)移位，通过传感器(8)获得被所述衬底(2)反射的图案的至少三个图像的序列，所述图像对应于所述图案(3)的所述条纹(4)的移位，利用所述图案(3)的条纹(4)的移位，确定所述衬底(2)的表面的梯度，以及利用所述衬底(2)的表面的梯度变化，确定所述衬底(2)上有没有表面缺陷。 | ||
| 地址 | 法国贝宁 | ||