发明名称 阴离子交换膜及其制造方法
摘要 本发明提供含有对于以乙烯醇系聚合物嵌段和具有阳离子性基团的聚合物嵌段作为构成成分的嵌段共聚物实施交联处理而得到的物质作为主要成分的阴离子交换膜。此外,对由该嵌段共聚物的溶液得到的被膜在100℃以上的温度下进行热处理后,在水、醇或它们的混合溶剂中,在酸性条件下利用二醛化合物进行交联处理,接着进行水洗处理,由此制造阴离子交换膜。由此,可以提供抑制有机污染且膜电阻、离子迁移数等基础特性和膜强度优异的阴离子交换膜。
申请公布号 CN102449042A 申请公布日期 2012.05.09
申请号 CN201080023057.3 申请日期 2010.03.24
申请人 可乐丽股份有限公司 发明人 直原敦;小林谦一;藤原直树
分类号 C08J5/22(2006.01)I;B01D61/46(2006.01)I;B01D71/38(2006.01)I 主分类号 C08J5/22(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 孙秀武;高旭轶
主权项 阴离子交换膜,其含有对于以乙烯醇系聚合物嵌段(A)和具有阳离子性基团的聚合物嵌段(B)作为构成成分的嵌段共聚物(P)实施交联处理而得到的物质作为主要成分。
地址 日本冈山县仓敷市酒津1621番地