| 发明名称 | 表面处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明公开了能够防止或者抑制被处理对象上的投射件的残留的表面处理装置。利用输送装置(20)输送H形钢(被处理对象)(12)，并利用投射装置(24A、24B)对H形钢投射投射件。鼓风装置(30)的吹送口(30A)配置在比投射装置(24A、24B)靠近输送方向下游的输送通路的上方，该鼓风装置(30)朝H形钢(12)的上表面(112A)侧吹送气体。由此，H形钢(12)上的投射件被吹散而被除去。 | ||
| 申请公布号 | CN102448670A | 申请公布日期 | 2012.05.09 |
| 申请号 | CN201180002270.0 | 申请日期 | 2011.03.01 |
| 申请人 | 新东工业株式会社 | 发明人 | 山本茂;大山忠伸 |
| 分类号 | B24C9/00(2006.01)I;B24C3/32(2006.01)I | 主分类号 | B24C9/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 王轶;李洋 |
| 主权项 | 一种表面处理装置，该表面处理装置是利用投射件对被处理对象进行表面处理的装置，所述表面处理装置的特征在于，所述表面处理装置具备：输送构件，该输送构件形成用于输送被处理对象的输送通路，沿着该输送通路朝输送方向输送被处理对象；投射构件，该投射构件对所述输送来的被处理对象投射投射件而进行表面处理；以及吹送构件，该吹送构件从比所述投射构件靠近所述输送方向的下游的所述输送通路的上方朝被处理对象的上表面吹送气体。 | ||
| 地址 | 日本爱知县 | ||