半色调掩模及其制造方法

摘要

本发明涉及一种半色调掩模及其制造方法，用来减少形成多个半透过部的半透过材料的数目以及过程的数目，从而减少制造成本，其中，所述半色调掩模包括：基底；透射区，形成在所述基底上以透射预定波长的辐射光；以及半透过区，形成在所述基底上，具有由两种或多种半透过材料交替层叠的多个层，并且半透过区形成有根据层叠的半透过材料的数目具有不同透射率的多个半透过部；以及具有阻挡层的阻挡区，该阻挡层形成在具有交替层叠的多种半透过材料上。

主权项

一种半色调掩模，包括：基底；透射区，形成在所述基底上以透射预定波长的辐射光；以及半透过区，形成在所述基底上，具有由两种或多种半透过材料交替层叠的多个层，并且半透过区形成有根据层叠的半透过材料的数目具有不同透射率的多个半透过部。