| 发明名称 | 基板处理装置的清洗方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种基板处理装置，尤其涉及对实施基板处理的基板处理装置进行清洗的基板处理装置的清洗方法。本发明的基板处理装置的清洗方法对清洗处理室内部进行清洗，其包括：RPG清洗步骤，在与所述处理室相连接的远程等离子体发生器中对清洗气体进行自由基化，并向所述处理室的内部喷射该清洗气体来清洗所述处理室；直接清洗步骤，通过气体供给部向处理空间喷射清洗气体，同时对喷射到所述处理空间的清洗气体进行等离子化来清洗处理室，在所述基板处理装置的清洗方法中，组合实施所述RPG清洗步骤以及所述直接清洗步骤。 | ||
| 申请公布号 | CN102446791A | 申请公布日期 | 2012.05.09 |
| 申请号 | CN201110300209.6 | 申请日期 | 2011.09.29 |
| 申请人 | 圆益IPS股份有限公司 | 发明人 | 白春金 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I;B08B5/02(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京青松知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11384 | 代理人 | 郑青松 |
| 主权项 | 一种基板处理装置的清洗方法，对处理室的内部进行清洗，其特征在于，包括：RPG清洗步骤，在与所述处理室相连接的远程等离子体发生器中对清洗气体进行自由基化，并向所述处理室的内部喷射该清洗气体来清洗所述处理室；以及直接清洗步骤，通过气体供给部向处理空间喷射清洗气体，同时对喷射到所述处理空间的清洗气体进行等离子化来清洗处理室，在所述基板处理装置的清洗方法中，组合实施所述RPG清洗步骤以及所述直接清洗步骤。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道平泽市振威面 | ||