发明名称 |
基底无微粒处理装置 |
摘要 |
本发明涉及在洁净室条件下在微环境内根据微技术的基底无微粒处理的装置。本发明的任务是提供一种基底处理装置,所述基底处理装置无摩擦地工作,因此无微粒。根据本发明设计了用于该装置的数个自由度,由此至少在x-轴、y-轴、z-轴和Φ-方向上被磁性地且无接触地支撑和/或引导,由此轴和方向中的每个的支撑与驱动无接触且电磁地实现,由此用于承载和驱动的能量的传递以无接触的方式实现。设计有至少一个主动部件(3)和至少一个被动部件(2),由此将可移动的主动部件(3)通过磁性轴承(4、5)引导成悬挂在固定的被动部件(2)处,由此与主动部件(3)一起运行的驱动电机(7)与通过电磁耦合装置实现的能量供应器耦合。 |
申请公布号 |
CN102449753A |
申请公布日期 |
2012.05.09 |
申请号 |
CN201080023332.1 |
申请日期 |
2010.05.26 |
申请人 |
萨米列弗有限公司 |
发明人 |
马丁·安尼斯;克里斯托夫·克莱森;乌尔里希·奥尔登多夫;托马斯·西博尔德 |
分类号 |
H01L21/677(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/677(2006.01)I |
代理机构 |
中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 |
代理人 |
沈同全;车文 |
主权项 |
一种用于在洁净室条件下在微环境内的微技术的基底无微粒处理的装置,其特征在于:对于所述装置设计有多个自由度,由此至少x‑轴、y‑轴、z‑轴和Φ‑方向被磁性地并且无接触地支撑和/或引导,由此所述轴和方向中的每个的支撑和驱动无接触且电磁地实现,并且由此用于承载和驱动的能量的传递无接触地实现,并且由此设计有至少一个主动部件(3)和至少一个被动部件(2)。 |
地址 |
德国格罗斯沃尔斯坦 |