作为支座用于有机发光二极管装置的具有纹理化表面的结构的制备方法、以及具有纹理化表面的OLED结构

摘要

本发明涉及制备具有纹理化表面的结构的方法，其形成有机发光二极管装置用支撑物，本发明还涉及具有纹理化表面的结构；该结构在由矿物玻璃制得的透明基底(10)提供，其上任选沉积由矿物玻璃制得的界面薄膜(2)，表面纹理的轮廓由突起(14)和凹陷(15)构成，其通过FT或粗糙度参数Rdq进行限定，使突起不太尖锐，以便能够保证提取效率的提升。所述方法尤其包括在玻璃基底上沉积涂敷薄膜(11)，以及通过加热和冷却确保装配件的收缩。

主权项

一种用于制备具有纹理化表面的结构(1)的方法，该结构形成有机发光二极管装置用支撑物，该结构提供在由矿物玻璃制得的透明基底(10)上，所述矿物玻璃涂布有由矿物玻璃制得的任选的光学界面薄膜(2)，纹理的轮廓由突起(14)和凹陷(15)构成，为形成纹理化的表面，该方法包括：‑在基底的一个主面上、或在所述任选的界面薄膜(2)上分别沉积涂敷薄膜(11)，涂敷薄膜的厚度小于或等于300nm，并且比基底或所述界面薄膜分别薄至少10倍；‑通过充分提高温度至分别高于基底的玻璃或任选的界面薄膜的玻璃化转变温度Tg的加热温度T1，及通过分别冷却基底或任选的界面薄膜而分别收缩基底或界面薄膜，冷却发生在涂敷薄膜的沉积之后，在由加热温度T1降至玻璃化转变温度Tg下，基底玻璃或任选的界面薄膜的自由热收缩ε1分别与涂敷薄膜自由热收缩ε2之间的差值通过式ε1‑ε2＝(α1‑α2)(T1‑Tg)给出，其中α1是高于Tg时的玻璃的平均线性热膨胀系数，α2是高于Tg时的涂敷薄膜的平均线性热膨胀系数，上述差值至少为0.1％。