一种控制离子均匀注入的二维扫描装置

摘要

本发明公开了一种控制离子均匀注入的二维扫描装置，属于半导体制造领域。该装置包括剂量控制器、运动控制器、移动法拉第、扫描板、直线电机和计算机。扫描板和剂量控制器连接；直线电机和运动控制器连接；移动法拉第和剂量控制器连接；剂量控制器和运动控制器连接；剂量控制器和运动控制器均与计算机连接，由计算机协调动作并进行控制。本发明能够实现离子注入剂量的精确检测和剂量的均匀性控制。

主权项

一种离子均匀注入的二维扫描控制装置，包括剂量控制器(1)、运动控制器(2)、移动法拉第(3)、扫描板(4)、直线电机(5)。所述的剂量控制器(1)连接扫描板(4)、计算机(6)和运动控制器(2)；所述的运动控制器(2)连接直线电机(5)、移动法拉第(3)、剂量控制器(1)和计算机(6)；所述的计算机(6)同时与运动控制器(2)和剂量控制器(1)连接，协调控制运动控制器(2)和剂量控制器(1)工作。