| 发明名称 | 半色调掩模及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种半色调掩模及其制造方法，用来使用单一半透过材料形成多个半透过单元，其中，所述半色调掩模包括：基底；透射区，形成在所述基底上以透射预定波长范围内的辐射光；以及半透过区，形成在所述基底上，具有多个半透过单元，这些半透过单元使用所述预定波长范围根据半透过材料的厚度或层叠层的数目具有多个互不相同的透射率。 | ||
| 申请公布号 | CN102449735A | 申请公布日期 | 2012.05.09 |
| 申请号 | CN201080023383.4 | 申请日期 | 2010.05.26 |
| 申请人 | LG伊诺特有限公司 | 发明人 | 金武成 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/027(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人 | 许向彤;林锦辉 |
| 主权项 | 一种半色调掩模，包括：基底；透射区，形成在所述基底上以透射预定波长范围内的辐射光；以及半透过区，形成在所述基底上，具有多个半透过单元，在使用所述预定波长范围时这些半透过单元根据半透过材料的厚度或层叠的层的数目具有多个互不相同的的透射率。 | ||
| 地址 | 韩国首尔 | ||