发明名称 地下溶洞造影探测法
摘要 本发明公开一种地下溶洞造影探测法,首先在地下水上游施工设置投盐造影孔,投盐造影孔深度超过建筑物基础设计深度5-10m或进入连续完整石灰岩5-10m,向投盐造影孔内投可溶性金属化合物,利用地下溶洞的充水性及围岩石灰岩的裂隙与地下溶洞之间的连通性,使可溶性金属化合物溶解后顺地下水流向流动;测量地下溶洞及围岩石灰岩的电阻率值,通过观察地下溶洞与围岩石灰岩的电阻率电性差异来探测石灰岩地区地下溶洞。本发明有如下优点:通过人为地降低地下溶洞的电阻率值,对地下溶洞进行低电阻率造影,加大了地下溶洞与围岩石灰岩的电阻率电性差异,从而提高电阻率法对地下溶洞探测的分辨率,做到快速、准确、经济地探测石灰岩地区地下溶洞的目的。
申请公布号 CN102444111A 申请公布日期 2012.05.09
申请号 CN201110317895.8 申请日期 2011.10.19
申请人 邓业灿 发明人 邓业灿
分类号 E02D1/02(2006.01)I;G01V3/18(2006.01)I;G01N27/02(2006.01)I 主分类号 E02D1/02(2006.01)I
代理机构 广州凯东知识产权代理有限公司 44259 代理人 陈领
主权项 地下溶洞造影探测法,其特征在于,其步骤包括:首先在待测建筑工程场地的地下水上游施工设置投盐造影孔,向盐投造影孔内投可溶性金属化合物,利用地下溶洞的充水性及围岩石灰岩的裂隙与地下溶洞之间的连通性,使可溶性金属化合物溶解后顺地下水流向流动;测量地下溶洞及围岩石灰岩的电阻率值,通过观察地下溶洞与围岩石灰岩的电阻率电性差异来探测石灰岩地区地下溶洞。
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