摘要 |
Reivindicacion 1: Un compuesto de la formula (1) en la que R1 es fenilo o tienilo, dichos fenilo y tienilo están opcionalmente sustituidos de 1 a 3 veces por sustituyentes elegidos con independencia entre el grupo formado por hidroxilo, halogeno, alquilo inferior, alcoxi inferior, haloalquilo inferior, haloalcoxi inferior, (alcoxi inferior)-alquilo inferior, -OC(O)-alquilo inferior, -OCH2C(O)-alcoxi inferior y fenilo; R2 es un heteroarilo monocíclico de 5 o 6 eslabones que tiene de 1 a 3 heteroátomos elegidos con independencia entre N y O, dicho heteroarilo está opcionalmente sustituido de 1 a 3 veces por sustituyentes elegidos con independencia entre el grupo formado el resto de formula (2), halogeno, hidroxilo, nitro, alquilo inferior, alquenilo inferior, alcoxi inferior, alcoxi inferior-C(O)-, hidroxialquilo inferior, haloalquilo inferior, (alcoxi inferior)-alquilo inferior, (alquilo inferior)-C(O)-, cicloalquilo, heterociclilo, arilo, heteroarilo y amino opcionalmente sustituido por heteroarilo, en el que dos sustituyentes de R2, junto con dicho heteroarilo al que están unidos, pueden formar un anillo bicíclico de 9 o 10 eslabones; R3 y R3' son con independencia hidrogeno, alquilo inferior, hidroxialquilo inferior, cianoalquilo inferior, haloalquilo inferior, (alcoxi inferior)-alquilo inferior, cicloalquilo, cianocicloalquilo, heterociclilo o arilo, dicho alquilo inferior está opcionalmente sustituido por haloalcoxi inferior, cicloalquilo, arilo o heteroarilo, dicho heteroarilo está opcionalmente sustituido de 1 a 3 veces por sustituyentes elegidos con independencia entre el grupo formado por halogeno, nitro, ciano, alquilo inferior, haloalquilo inferior, alcoxi inferior y cicloalquilo y dicho heterociclilo está opcionalmente sustituido por alquilo inferior, o R3 y R3', junto con el átomo de nitrogeno al que están unidos, forman un heterociclilo, 2,5-dihidro-1H-pirrol, 2-metil-2,4,5,6-tetrahidropirrolo[3,4-c]pirazol o 2-oxa-6-aza-espiro[3.3]heptano, dicho heterociclilo está opcionalmente sustituido de 1 a 3 veces por halogeno, hidroxilo, oxo, alquilo inferior o heteroarilo; R8 es hidrogeno, alquilo inferior, alcoxi inferior o (alcoxi inferior)-alquilo inferior; o sus sales farmacéuticamente aceptables.
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